，所以在研究光刻机上，李毅安一直都是非常用心的。
尽管对于这一领域，他是一个外行，但是靠着系统赋予的技能，光刻机的研究上，他确实给予了很大的指导作用。
走到桌边，李毅安又一次翻开了那份报告，翻到光刻机的内容，看着对光刻机的发展规划。
李毅安自言自语道。
“这种步进式光刻机还有进一步研究的潜力……”
并不仅仅只是潜力。事实上，直到90年代，所有的芯片都是由这种不经时光刻机所生产的，
但是最终他还是淘汰了，因为摩尔定律。随着芯片制程的不断缩小，晶体管密度按照摩尔定律每18个月倍增加。这意味着需要更加优良的光刻机。
在长达20年的时间里，基于透镜组的步进式光刻机，都可以满足这一需要。通过不断对光源以及生产工艺的改进他甚至可以生产几微米的芯片。
直到21世纪初，采用极紫外光源上的EUV光刻机问世，完全颠覆了所有的仪器。
而EUV光刻机的发明，可能是当时人类科技领域所到达的最高峰，这是人类突破艰难科技问题、花费巨额研发资金才孕育出的智慧结晶。
他的发明可以说是汇集了整个西方世界在这一领域内的最先进技术。
“sEA能够凭借自己的力量研制出这种光刻机吗？”
发出这个问题的时候，李毅安虽然是满怀期待的，内心同样也是有些急切的，虽然说在接下来的20年里，步进式光刻机都可以满足芯片制程的需要，
但是，在人类科技文明科技从轰鸣的巨型机械变成了微小的半导体之后，摩尔定律的存在，就像是一个魔咒一样，以前所未有的速度去推动着对科技文明的发展。
稍微懈怠一些或者说，稍微慢上一两步，那么很有可能就是全面的落后。
所以在极紫外光源上以及开发EUV光刻机都是刻不容缓的，
可惜现在很多技术尚不成熟，尤其是能运用于极紫外光的光刻胶还不存在。
“现在是你追我赶的时代，容不得有一丝一毫的懈怠啊。”
在说出这番话的时候，李毅安看着面前的报告，目光变得越发凝重起来。
“先进行一些基础相应的研究吧。”
而这也恰恰是李毅安的存在目的，就是在方向上给予一定的指导。
当然，不能太过好高骛远，毕竟，技术发展还需要立足于当下前瞻性的研究是不可或缺的，与此同时还需要对现有的技术进行深挖。
而在这种深挖的过程之中所取得的每一进步，每一个突破都会为未来开发新型EUV光刻机打下坚实的基础。
不过，在此之前，可以先对紫外光源进行研究，这正是李毅安的价值所在，他可以在大方向上给予指引，甚至还可以在技术细节上给予一些帮助，虽然这种帮助站在