最小线宽：小于
2.加速电压：
3.电子束直径：小于
4.套刻精度：1nm(mean+0.2σ
5.拼接精度：1nm(mean+0.2σ
6.加工晶圆尺寸：4-18英寸
7.描电镜分辨率：小于
主要特点：
1.采用超高亮度和超高稳定性的TFE电子枪；
2.出色的电子束偏转控制技术；
3.采用场尺寸调制技术，电子束定位分辨率可达0.0002nm；
4.采用轴对称图形书写技术，图形偏角分辨率可达0.002mrad；
5.应用领域广泛，如微纳器件加工，研究用掩膜制造，纳米加工（例如单电子器件、量子器件制作等），高频电子器件中的混合光刻，图形线宽和图形位移测量等
……
需要成就点：300点！
……
沐阳大概看了下简介，光从技术参数上就看出它的先进性
还有更加先进的光刻机，但是，以星海集团目前的条件，买了也造不出来，而且需要的成就点非常多
这个EBL01号称可以制造1nm以下的芯片，但量产成本会比较高
因此，当前的情况，星海集团可以从7nm芯片工艺开始，可以保证在2018年之前保持在世界第一地位
等竞争对手可以批量搞7nm芯片了，星海集团再推出5nm或3nm芯片
有些设备应用，也用不着这么高端的芯片，28nm芯片工艺足够，也是未来十年内的主流
只是说，沐阳不打算玩什么中低端芯片
另外，沐阳打算弄一些小于1nm的芯片，用于制造量子计算机和超算，这类芯片他打算自用
接下来，沐阳确认购买EBL01技术
十几分钟后，沐阳把EBL01技术吸收完毕
他感觉自己对光刻机有了更深入的了解，如今就是实实在在的芯片制造顶尖专家
买了光刻机的技术，沐阳还得购买芯片设计技术、芯片设计相关软件和相关设备
这个芯片设计软件，他就不打算自己研发了，他在芯片软件设计这一块是弱点，靠自己研究不知道得花多长时间
而且，目前公司形势严峻，一旦漂亮国知道自己公司在搞芯片了，会对星海集团搞各种限制
沐阳现在赶时间，同时还有更多更重要的事情需要他亲自处理
于是，他又花了400点成就点
这一晚，沐阳就花了700点成就点，还是有些心疼
等吸收完新技术后，沐阳实在有些发困了，回床休息
翌日，沐阳是被宋雪露吧嗒一下脸蛋睡醒的
“孩子他爸，生日快乐”
“谢谢，有你真好”
沐阳睁开朦胧的双眼，揽过妻子的纤腰
他老婆跟他同年出生，只比他小几个月
系统8级时，商店有驻颜、延迟衰老类的医药技术，沐阳希望在二十年内研发出来，能够用在老婆身
点击读下一页,继续阅读 520农民 作品《重生2008：我阅读能赚钱》第440章 光刻机项目：另辟蹊径